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產品資料

ZH5495型射頻ICP薄膜沉積裝置

如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱: ZH5495型射頻ICP薄膜沉積裝置
產品型號: ZH5495型
產品展商: ghitest
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簡單介紹

本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統等部分組成。 通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學輸運反應的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學、光學、微電子學等領域的廣闊應用前景。


ZH5495型射頻ICP薄膜沉積裝置  的詳細介紹
射頻ICP薄膜沉積裝置 
型號：YQ-DHIP-1 		貨號：ZH5495
產品簡介
  本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統等部分組成。
  通過本實驗裝置可以掌握CVD（化學氣相沉積）；理解CVD的成膜過程及要求，化學輸運反應的原理，等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式；了解該在電學、光學、微電子學等領域的廣闊應用前景。
可開設的實驗
1、P型微晶矽材料及在薄膜太陽能電池上的應用；
2、矽係納米複合薄膜材料PCVD法製備；
3、電容耦合/電感耦合等離子體化學氣相沉積製備**功能薄膜。
主要參數
1、薄膜沉積室：由不鏽鋼底與玻璃鍾罩組成；**尺寸：Φ220×H230mm；
2、薄膜沉積室本底真空： ≤1Pa；
3、射頻耦合方式：電容耦合/電感耦合；射頻源功率：帶500W  13.56MHz；
4、氣路係統：由三路轉子流量計控製（可選配流量計）；
5、襯底加熱溫度：室溫至300℃可控；
6、平行板電：Φ70mm；
7、工作反應氣體：由電板上微孔均勻導入；
8、真空抽氣係統：2XZ-4型旋片機械泵，4L/S，單相220V交流電源供電；
9、管道、閥門：材質使用不鏽鋼和金屬波紋管；
10、對過流過壓、斷路等異常情況進行報警，並執行相應保護措施；
11、供電電源：AC220V，50Hz，整機功率2KW。
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